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名称：直线型磁控溅射镀膜机

用途：磁控溅射制备极紫外至X射线波段各类大尺寸平面反射镜及柱面反射镜内外表面光学反射镜薄膜，比如W/Si多层膜，Cr/C多层膜，Pt单层膜等。

性能：样品尺寸：400×1200mm，柱面；厚度均匀性精度：1%。

应用范围：适用于极紫外、X射线与中子光学系统中各类大尺寸反射镜、偏振片、单色器等薄膜制备。