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名称：超高真空磁控溅射镀膜机

用途：磁控溅射制备极紫外至X射线波段各类光学薄膜，比如W/Si多层膜，Cr/C多层膜，Pt单层膜等。并可实现在线真空退火等工艺手段。

性能：样品尺寸：Φ100mm；厚度均匀性精度：优于2%。

应用范围：适用于极紫外、X射线与中子光学系统中各类小尺寸反射镜、偏振片、单色器等薄膜制备。